用作真空蒸發鍍的裝置稱為蒸發鍍膜機。蒸發鍍膜機主要由真空室、排氣系統、蒸發系統和電氣設備四部分組成。

真空室是放置鍍件、進行鍍膜的場所，直徑一般為400~700mm，高400~800mm，用不銹鋼制作，有水冷卻裝置。

真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。

為了提高鍍層厚度的均勻性，真空室內的鍍件夾具有行星機構或自轉加公轉的運動裝置，如用行星運動方式，這種運動方式成膜均勻性好，臺階覆蓋性能良好，鍍件裝載量大，可以充分利用真空鍍膜室的有效空間，是目前經常采用的運動方式。

排氣系統一般由機械泵、擴散泵、管道和閥門組成。為了提高抽氣速率，可在機械泵和擴散泵之間加機械增壓泵。因此，排氣系統既要求在較短的時間內獲得低氣壓以保證快速的工作循環，也要求確保在蒸氣鍍膜時迅速排除從蒸發源和工作物表面所產生的氣體。

蒸發系統包括蒸發源和加熱蒸發源的電氣設備。電氣設備包括測量真空和膜層厚度及控制臺等。